VSM-1000-MICRO顯微式激光測振儀

基于自混干涉技術的激光測振儀的構造要比傳統(tǒng)的多普勒效應的激光測振儀簡單得多。從半導體二極管出來的激光打到反射或散射表面后，一小部分背反射或背散射的光再次進到激光腔體，然后產(chǎn)生干涉信號，從中可以得到被測表面法向方向的位移 。

VSM-1000-MICRO采用兩種激光。測量振動的激光是紅外（波長1310nm），不可見的。紅外和不可見激光是完全的眼睛安全的。另外一個紅色的指示激光是為不可見的紅外激光對中之用。為了不占滿攝像機，紅色指示激光的功率減到1Mw，光斑大小為10um.激光測振儀被附在顯微鏡的特殊調(diào)節(jié)架上，邊通濾波鏡主要用以紅外激光和可見激光的反射，然后分別聚焦到測試目標上。濾波鏡能夠

傳遞20%從測試表面上散射回來的光，并且在CMOS攝像機的傳感器上聚焦。為了能對中方便，顯微鏡裝在一個俯仰、傾斜和旋轉位移臺上。顯微鏡激光測振儀測量測試表面的法向分量的振動。

光學指標 ：

激光類型 ：

Pout < 1 mW @ 650 nm (collimated)
Pout < 15 mW @ 1310 nm (focused)

激光等級：

· Class 2 @ 650 nm (可見)
· Class 1M @ 1310 nm (不可見)

激光頭尺寸：50 mm x 70 mm x 105 mm

控制單元尺寸：12.5 cm x 15.5 cm x 29.6 cm

彩色攝像機指標：

• 130萬像素(1280 x 1024) 黑白，彩色和近紅外CMOS傳感器
• 像素 ：1280 x 1024 Pixels
• 工作距離： 21.7 mm
• 激光深度： 0.048 mm
• 光斑直徑： 4.0 μm
• 范圍：300um x 250 um (X50目鏡)

激光測振儀指標：

量程： 1mm (p-p)

頻率范圍：0-50 KHz （20KHZ-3 MHz）

分辨率： 0.2 nm s–1/√Hz

精度 ：+-1% (0-50KHZ),+-5%(20KHZ-3MHZ)

應用 ：本產(chǎn)品適用于硅片、IC、LCD、TFT、PCB、MEMS激光加工、晶片測試、半導體材料、線束加工蝕刻、液晶電池蓋、導線框架等產(chǎn)品的檢查觀察。

也適用于幾何形狀的顯微觀測，并且有三維的計量功能。因此是精密零件，集成電路，半導體芯片，光伏電池，光學材料等行業(yè)的儀器。